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抛光原理?

时间:2024-10-03 19:26|来源:未知|作者:温变仪器|点击:0次

一、抛光原理?

1.机械抛光

机械抛光是靠切削或使材料表面发生塑性变形而去掉工件表面凸出部得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可达到Ra0.008 μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中表面粗糙度最好的。光学镜片模具常采用这种方法。

2.化学抛光

化学抛光是材料在化学介质中让表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。该方法可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光得到的表面粗糙度一般为Ra10 μm。

3.电解抛光

电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,它可消除阴极反应的影响,效果较好。

4.超声波抛光

超声抛光是利用工具断面作超声波振动,通过磨料悬浮液抛光脆硬材料的一种加工方法。将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。

5.流体抛光

流体抛光是依靠流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。流体动力研磨是由液压驱动,介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺入磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

6.磁研磨抛光

磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制。。

7.电火花超声复合抛光

为了提高表面粗糙度Ra为1.6 μm以上工件的抛光速度,采用超声波与专用的高频窄脉冲高峰值电流的脉冲电源进行复合抛光,由超声振动和电脉冲的腐蚀同时作用于工件表面,迅速降低其表面粗糙度。

二、蒸汽抛光原理?

通过蒸汽抛光,可以从Xantar PC零件上去 除细小的刮痕和其它较小的表面不规则。

该 工艺使用化学蒸汽,侵蚀塑料表面,并将其 进行平整。如果正确操作,蒸汽抛光可以获 得光学质量的表面。在PC的蒸汽抛光工艺中常用二氯甲烷蒸汽。通过加热二氯甲烷容器至其沸点,获得蒸汽。零件与二氯甲烷蒸汽接触时间少于3秒。整 个工艺必须在封闭和通风良好的室内进行, 以防操作者接触烟气。零件不应接触液态二 氯甲烷。抛光工艺完成后,必须让元件变干,以便使元件上的二氯甲烷蒸发。抛光工艺后,零件必须进行干燥,并挥发所 有的二氯甲烷。最后零件在空气循环炉上逐 步加热,保持在120oC(250oF)一个小时, 以释放表面应力,并挥发渗入的二氯甲烷。应仔细清洗零件, 清洁灰尘颗粒和所有异物,例如油脂;并在抛光前干 燥。由于具有危险性,该工艺必须仅由有经验的 人员操作。如果吸入化学蒸汽,将对人体有 害;必须配置特殊设备,以防操作者接触化学品。另外,各个政府机关对该类化学品的接触量有严格的法规限制。请参考化学品供应商提供的MSDS。

三、聚氨酯抛光原理?

聚氨酯抛光是一种表面处理技术,其原理是通过机械力和磨料的作用,将聚氨酯表面的不平整、氧化层和污垢去除,使其恢复光滑、亮丽的外观。

在抛光过程中,磨料颗粒与聚氨酯表面摩擦产生热能,使聚氨酯表面软化,同时磨料颗粒的摩擦力将污垢和氧化层剥离。随着抛光的进行,磨料颗粒逐渐变细,最终达到光滑的效果。

抛光后,可以使用特殊的抛光剂和润滑剂来进一步提高聚氨酯表面的光泽和保护。

四、opi抛光原理?

抛光是一种表面处理技术,用于改善材料表面的平整度、光洁度和光学特性。"OPI"(Optical Polishing Interface)是一种用于光学和半导体应用的抛光方法。下面是关于OPI抛光的一般原理:

1. 材料选择:OPI抛光通常适用于硬度较高的材料,如玻璃、陶瓷、硅等。这些材料具有较高的抛光稳定性和较好的光学特性。

2. 磨料选择:选择适当的磨料是OPI抛光的关键。通常使用颗粒度较小的磨料,如氧化铝、二氧化硅等,以获得更细致的表面光洁度。

3. 抛光液:抛光液是用于在抛光过程中提供润滑和冷却作用的液体。它通常包含磨料和添加剂,以改善抛光效果和控制表面质量。

4. 抛光机制:OPI抛光通常采用机械力和化学反应相结合的方式。抛光机械力由抛光机设备提供,通过旋转、摩擦或振动来施加到材料表面。同时,抛光液中的化学物质可与材料表面发生反应,使其更容易去除或改善表面质量。

5. 抛光过程控制:OPI抛光的过程需要控制参数,例如抛光机的转速、抛光液的浓度和温度,以及抛光时间等。这些参数的选择和调整对于获得所需的表面光洁度和平整度至关重要。

6. 检测和评估:完成抛光后,需要对表面进行检测和评估。常用的方法包括使用光学显微镜、表面轮廓仪、干涉仪等,来评估表面的平整度、光洁度和光学特性。

通过以上原理和控制步骤,OPI抛光可以获得高质量的光学和半导体材料表面。具体的抛光过程可能因材料、应用和抛光设备而有所不同,因此在实际应用中,需要根据具体情况进行参数优化和调整。

五、低温抛光原理?

原理:

就是通过在常温常压下的等离子体化学反应来实现工件材料高效去除的一种新的超精密超光滑加工方法。 

大气低温等离子体采用气体辉光放电的方式产生。工作气体通常包含等离子体气体和反应气体。

其中,等离子体气体是容易被大量激发的气体,它通常不参与化学反应,主要负责维持有效的放电状态和形成大面积高密度的等离子体放电,为反应气体的进一步激发提供活性氛围。

六、水抛光原理?

就像在水壶里放着一个电灯泡,水壶漏了个洞,水从洞里流出来的时候光线也会顺着水流射出,此时光不再走直线,而会顺着水流射在地上.用的是全反射原理吧,大概和光导纤维一样

七、喷砂抛光原理?

喷砂

利用高速砂流的冲击作用清理和粗化基体表面的过程。采用压缩空气为动力,以形成高速喷射束将喷料(铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海南砂)高速喷射到需要处理的工件表面,使工件表面的外表面的外表或形状发生变化,由于磨料对工件表面的冲击和切削作用,使工件的表面获得一定的清洁度和不同的粗糙度,使工件表面的机械性能得到改善,因此提高了工件的抗疲劳性,增加了它和涂层之间的附着力,延长了涂膜的耐久性,也有利于涂料的流平和装饰。

抛光

是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。

八、电抛光原理?

工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面,这种黏膜在凸起处较薄,凹处较厚,因凸起处电流密度高而溶解快,随黏膜流动,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被整平的过程。

工件作为阳极接直流电源的正极。用铅﹑不锈钢等耐电解液腐蚀的导电材料作为阴极﹐接直流电源的负极。两者相距一定距离浸入电解液(一般以硫酸﹑磷酸为基本成分)中﹐在一定温度﹑电压和电流密度(一般低于1安/厘米2 )下﹐通电一定时间(一般为几十秒到几分)﹐工件表面上的微小凸起部分便首先溶解﹐而逐渐变成平滑光亮的表面。

九、离子抛光原理?

其原理是:

在真空状态下利用具有一定能量的惰性气体离子轰击工件表面,通过物理溅射效应去除表面材料的过程。

十、磁针抛光原理?

原理:磁力抛光机是以超强电磁力来驱动磨料为不锈钢针与有毛刺的产品一同旋转与碰撞,从而进行去毛刺抛光工作,研磨抛光后的产品,不影响精度,不损伤工件,15分钟就能让产品变得光亮无毛刺。

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